Depunere chimică în fază de vapori

De la Wikipedia, enciclopedia liberă
Jump to navigation Jump to search

Depunere chimică în fază de vapori (simbolizat CVD, din engleză Chemical vapor deposition) este o metodă de depunere utilizată pentru producerea unor materiale solide de calitate înaltă, realizată de obicei sub vid. Metoda este adesea utilizată în industria semiconductorilor pentru producerea de filme subțiri.

Într-o metodă CVD obișnuită, plăcuța substrat este expusă unuia sau mai multor precursori volatili, care au rolul de a reacționa și a se depune pe suprafața substratului sub forma produsului dorit. De obicei se formează și produși secundari volatili, iar aceștia trebuie eliminați din camera de reacție.

Vezi și[modificare | modificare sursă]

Referințe[modificare | modificare sursă]


Legături externe[modificare | modificare sursă]